低輻射玻璃根據(jù)生產(chǎn)工藝不同分為在線CVD技術(shù)與離線真空磁控濺射技術(shù)。
離線真空磁控濺射工藝,是在玻璃表面鍍上具有低輻射作用的金屬銀功能膜,兩側(cè)必須加上多層介質(zhì)膜作為保護和過渡膜層,膜層與玻璃通過物理鍵結(jié)合。
這種“軟鍍膜”產(chǎn)品有下列局限:膜層容易受到劃傷或損壞;由于銀極易氧化,膜層在接觸到空氣后會退化,因而其壽命有限;在短時間內(nèi)必須將鍍膜后的玻璃合成中空;如進行鋼化等深加工時一般在鍍膜之前完成。
在線LOW-E采用具有世界領(lǐng)先水平的在線CVD技術(shù),在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,當(dāng)玻璃處于近700℃高溫時,在表面上鍍上半導(dǎo)體金屬氧化物,膜層同玻璃通過化學(xué)鍵結(jié)合,成為玻璃表面的一部分。因而具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
這種“硬鍍膜”產(chǎn)品具有如下特性:可單片使用;膜層牢固,耐用,實現(xiàn)永久節(jié)能;在合成中空時無需除去邊部膜層,可像普通浮法玻璃一樣進行熱彎、鋼化等深加工和儲存。